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【授权专利】[200710070023.X]一种侧链含四硫代富瓦烯结构单元的聚硅烷制备方法

上传时间 :2014-01-03 11:10:12    浏览次数 :12345    作者与来源 :许文东

 


 

·                                  申请公开说明书 7)页
·                                  审定授权说明书 7)页
        号:
 200710070023.X
      日:
 2007.07.16
          称:
 一种侧链含四硫代富瓦烯结构单元的聚硅烷制备方法
  (公告号:
 CN101096419
公开(公告)日:
 2008.01.02
   号:
 C08G77/60(2006.01)I
分案原申请号:
 
        号:
 C08G77/60(2006.01)I
        日:
 
      权:
 
申请(专利权)人:
 杭州师范大学
         址:
 310012浙江省杭州市下沙高教园区学林街16
  (设计)人:
 李美江;吕素芳;来国桥;邱化玉;蒋剑雄
 请:
 
      布:
 
进入国家日期:
 
专利 代理 机构:
 杭州中成专利事务所有限公司
      人:
 陈小良
 
摘要
 本发明涉及一种有机高分子聚合物的制备方法,具体是指一种新型导电的侧链含四硫代富瓦烯结构单元的聚硅烷制备方法。本发明需要解决的技术问题是,以聚甲基氯甲基苯基硅烷、含腈乙基四硫代富瓦烯衍生物和CsOH·H2O原料,在有机溶剂存在下,制备侧链含四硫代富瓦烯结构单元的聚硅烷。本发明的优点是所制备的新型聚硅烷与传统的聚硅烷相比,经氧化掺杂后,导电率高,在空气中稳定性好,有望作为有机导电材料得到应用。